真空電鍍方各種式的工作原理是什么？真空鍍膜高設備按照鍍膜方式主要可以分為：蒸發(fā)式鍍膜，離子鍍以及磁控濺射鍍膜，下面介紹各種真空電鍍方式的工作原理。

磁控濺射鍍膜技術的形成是利用真空輝光放電，加速正離子使其轟擊靶材表面引起的磁控濺射現(xiàn)象，磁控濺射鍍膜使靶材表面放出的粒子沉積到基片上而形成薄膜。

類金剛石薄膜的工作原理是把膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，類金剛石薄膜經(jīng)過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)。

當蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸，類金剛石薄膜蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，類金剛石薄膜可直接到達被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜。

真空電鍍廠家講述，多弧離子鍍膜的原理是利用真空弧光放電計數(shù)用在蒸發(fā)源技術，就是在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源（陰極），多弧離子鍍膜與陽極之間形成自持弧光放電，既從陰極弧光輝點放出陰極物質(zhì)的離子。