1、離子鍍分散能力強(qiáng)，形狀比較復(fù)雜的鍍件也能得到均勻的鍍層。
在離子鍍過(guò)程中，鍍材原子被電離成帶電離子，它們將沿電場(chǎng)電力線的方向運(yùn)動(dòng)，所以凡是分布有電力線的地方，都是離子所及之處。另外電鍍廠在射向工件的過(guò)程中無(wú)可避免地會(huì)與尚未電離的鍍材蒸氣原子、電子發(fā)生激烈碰撞，這將使離子產(chǎn)生非定向的散射。所以在髙壓直流電場(chǎng)中處于陰極地位的工件，無(wú)論是面向處于陽(yáng)極地位的蒸發(fā)源的表面，還是背面;也無(wú)論是裸露的表面，還是孔和凹槽，離子鍍都能鍍上。
2、鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度高。
如前所述在離子鍍中，離子對(duì)鍍面的轟擊所產(chǎn)生的濺射效應(yīng)對(duì)鍍面有凈化作用，它清除了吸附在鍍面上的氣膜和污物，而且這種凈化作用伴隨離子鍍過(guò)程的始終。離子的轟擊作用還會(huì)產(chǎn)生“反派射”，基體表面上有部分原子被濺射下來(lái)并電離，而后又隨其他離子返回鍍件表面，這就可能在鍍膜與基體表面之間的膜基面上形成過(guò)渡層或鍍材成分與基材成分的混合層。另外，在離子鍍過(guò)程中濺射效應(yīng)還能將與基體表面或與已鍍層附著不牢的鍍材原子再轟擊下來(lái)。離子轟擊還能使整體表面出現(xiàn)一些晶體缺陷，使鍍材原子的機(jī)械嵌入成為可能。電鍍廠將這些所有有作用的都有利于鍍膜與基體間結(jié)合強(qiáng)度的提高。
3、鍍膜組織細(xì)密。
在離子鍍中離子對(duì)鍍面的劇烈撞擊，改變了鍍膜的形核和晶核長(zhǎng)大機(jī)制。實(shí)驗(yàn)證明，隨著鍍件負(fù)偏壓的提高將會(huì)得到細(xì)密的晶粒。而細(xì)密的組織結(jié)構(gòu)無(wú)疑將使鍍膜獲得良好的力學(xué)性能。
4、突破了鍍層只可以是單一金屬或合金的局限，離子鍍可以得到化合物鍍層。
在離子鍍過(guò)程中，如在蒸發(fā)金屬的同時(shí)，向鍍膜室通以反應(yīng)氣，則可反應(yīng)生成化合物，從而使在較低溫度下得到化合物鍍層成為可能。而如果使用別種技術(shù)，通常只有在很高的溫度下靠熱激活才可能做到。