低電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是鍍液溫度太高，電流密度太小，主鹽濃度太低；
次級光亮劑過多或鍍液中有銅、鋅雜質(zhì)引起的；中電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是由次級光亮劑太少，有機雜質(zhì)過多或有一定量的鐵雜質(zhì)造成的；
高電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級光亮劑太少或鍍液中有少量的鉻酸鹽、磷酸鹽及鉛雜質(zhì)引起的。
此外，鍍前處理不良，鍍件表面有堿膜或有機物吸附膜，或者底鍍層不好也會導(dǎo)致鎳層出現(xiàn)陰暗的現(xiàn)象。
分析這類故障，可以取鍍鎳液先做赫爾槽試驗，假使多次試驗，赫爾槽的陰極樣板上鍍層狀況良好，沒有出現(xiàn)陰暗的現(xiàn)象，
那么電鍍時出現(xiàn)的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應(yīng)該認真檢查電鍍前的情況。
若赫爾槽試驗所得的陰極樣板上出現(xiàn)低電流密度區(qū)鍍層陰暗，則可以根據(jù)前面提到的可能原因進行分析。
中、高電流密度區(qū)鍍層陰暗，也可用類似的方法進行試驗，這里不再贅述。
